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提高金属电镀

的均匀性和良率

 

随着小型化的不断发展，半导体电镀行业正在提供先进的集成电路封装来开发下一代芯片设计。为了跟上技术进步的步伐，泵系统必须使珍贵的电镀溶液在工艺流程中保持可控、均匀且无颗粒产生。与Levitronix®泵相比，磁驱动离心泵包含机械滑动轴承，它会因溶液的沉淀而阻塞及失效。Levitronix®泵系统采用主动磁悬浮技术，显着延长了设备的正常运行时间，并可提供可靠、无脉冲和稳定的流量。由于没有机械轴承，因此几乎不会产生碎屑颗粒。

Levitronix® 泵系统专门设计用于要求苛刻的电镀应用，在这些应用中，一致均匀和超纯净的工艺流程将确保最高的良率。
益处

更长的使用寿命

无轴承故障

通过取消机械轴承，就不会发生可能导致局部热点的机械摩擦。不存在令金属沉淀的狭窄的间隙。低剪切、无“死区”的泵设计、光滑湿润的塑性材料表面，进一步避免了泵内的金属沉积，从而延长了泵的使用寿命。

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左图：使用亚硫酸金溶液运行一年后的Levitronix®泵。 右图：使用亚硫酸金溶液运行一个月后的磁力驱动泵。

安装空间小

远小于磁力驱动泵

泵和电机的高度集成设计，加上没有机械轴承，使得系统大大降低对空间的要求，并允许安装在狭小的空间中。

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Levitronix®BPS-3与磁力驱动泵在1.5 Bar、70 Lpm下的尺寸比较

最洁净的泵

超低颗粒产生

Levitronix® 泵系统基于主动磁悬浮。叶轮与泵头机壳之间没有机械耦合，可以实现无磨损运行，因此几乎不会产生碎屑颗粒。

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在流率5gpm压力40 psig于后段所量测到的粒径分布

极高的可靠性

平均故障间隔 > 100年

没有轴承磨损或密封件损坏。因此，设备的正常运行时间大大增加，延长了工艺设备的使用寿命，降低了维护成本。

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应用手册: Increased Uniformity and Yield in Metal Plating
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